Objektiv-Auswahl

Objektiv-Vergleich

CFI S Plan Fluor
ELWD ADM 20XC
Artikelnummer MRH48230
Typ Super Plan Fluor
Primärtechnik Apodisierter Phasenkontrast
Immersionsmedium Air
Vergrößerung 20×
Numerische Apertur 0.45
Arbeitsabstand 8.2–6.9
Deckglasdicke 0–2
CFI S Plan Fluor
ELWD ADM 20XC
Hellfeld geeignet
Dunkelfeld Universalkondensor (trocken) und Dunkelfeldring, Dunkelfeldkondensor (trocken/Öl)
DIC  
Fluoreszenz (sichtbar) geeignet
Fluoreszenz (UV) geeignet
Fluoreszenz (NIR)  
Polarisieren  
Polarisation Methode
Phasenkontrastring ◎PH1
Phasenkontrast Art ADM
CFI S Plan Fluor
ELWD ADM 20XC
Korrektionsring
Gefedert
Iris  
Langer Arbeitsabstand
Ti2-E PFS-kompatibel
CFI S Plan Fluor
ELWD ADM 20XC
Asbest  
geklärtes Gewebe  
Klinisch / Labor  
Konfokal  
Ausbildung  
Laser-Falle/-Pinzette  
Multiphotonen  
SIM  
STORM  
Forschung
TIRF  
Gewebekultur