Objektiv-Auswahl
Objektiv-Vergleich
CFI S Plan Fluor ELWD NAMC 20XC |
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Artikelnummer | MRH68200 |
Typ | Super Plan Fluor |
Primärtechnik | Modifizierter Kontrast |
Immersionsmedium | Luft |
Vergrößerung | 20X |
Numerische Apertur | 0.45 |
Arbeitsabstand | 8.2–6.9 |
Deckglasdicke | 0–2 |
CFI S Plan Fluor ELWD NAMC 20XC |
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Diagramm (mm) |
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Kurve |
CFI S Plan Fluor ELWD NAMC 20XC |
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Hellfeld | geeignet |
Dunkelfeld | |
DIC | |
Fluoreszenz (sichtbar) | geeignet |
Fluoreszenz (UV) | geeignet |
Fluoreszenz (NIR) | |
Polarisieren | |
Polarisation Methode | |
Phasenkontrastring | |
Phasenkontrast Art |
CFI S Plan Fluor ELWD NAMC 20XC |
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Korrektionsring | ✓ |
Gefedert | |
Iris | |
Langer Arbeitsabstand | ✓ |
Ti2-E PFS-kompatibel |
CFI S Plan Fluor ELWD NAMC 20XC |
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Asbest | |
geklärtes Gewebe | |
Klinisch / Labor | ✓ |
Konfokal | |
Ausbildung | |
Laser-Falle/-Pinzette | |
Multiphotonen | |
SIM | |
STORM | |
Forschung | ✓ |
TIRF | |
Gewebekultur | ✓ |