Objektiv-Auswahl
Objektiv-Vergleich
| CFI S Plan Fluor ELWD NAMC 20XC |
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|---|---|
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| Artikelnummer | MRH68200 |
| Typ | Super Plan Fluor |
| Primärtechnik | Modifizierter Kontrast |
| Immersionsmedium | Luft |
| Vergrößerung | 20X |
| Numerische Apertur | 0.45 |
| Arbeitsabstand | 8.2–6.9 |
| Deckglasdicke | 0–2 |
| CFI S Plan Fluor ELWD NAMC 20XC |
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|---|---|
| Diagramm (mm) |
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| Kurve |  |
| CFI S Plan Fluor ELWD NAMC 20XC |
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|---|---|
| Hellfeld | geeignet |
| Dunkelfeld | |
| DIC | |
| Fluoreszenz (sichtbar) | geeignet |
| Fluoreszenz (UV) | geeignet |
| Fluoreszenz (NIR) | |
| Polarisieren | |
| Polarisation Methode | |
| Phasenkontrastring | |
| Phasenkontrast Art |
| CFI S Plan Fluor ELWD NAMC 20XC |
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|---|---|
| Korrektionsring | ✓ |
| Gefedert | |
| Iris | |
| Langer Arbeitsabstand | ✓ |
| Ti2-E PFS-kompatibel |
| CFI S Plan Fluor ELWD NAMC 20XC |
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|---|---|
| Asbest | |
| geklärtes Gewebe | |
| Klinisch / Labor | ✓ |
| Konfokal | |
| Ausbildung | |
| Laser-Falle/-Pinzette | |
| Multiphotonen | |
| SIM | |
| STORM | |
| Forschung | ✓ |
| TIRF | |
| Gewebekultur | ✓ |