Objektiv-Auswahl

Objektiv-Vergleich

CFI S Plan Fluor
ELWD NAMC 20XC
Artikelnummer MRH68200
Typ Super Plan Fluor
Primärtechnik Modifizierter Kontrast
Immersionsmedium Luft
Vergrößerung 20X
Numerische Apertur 0.45
Arbeitsabstand 8.2–6.9
Deckglasdicke 0–2
CFI S Plan Fluor
ELWD NAMC 20XC
Diagramm
(mm)
Kurve
CFI S Plan Fluor
ELWD NAMC 20XC
Hellfeld geeignet
Dunkelfeld  
DIC  
Fluoreszenz (sichtbar) geeignet
Fluoreszenz (UV) geeignet
Fluoreszenz (NIR)  
Polarisieren  
Polarisation Methode
Phasenkontrastring  
Phasenkontrast Art
CFI S Plan Fluor
ELWD NAMC 20XC
Korrektionsring
Gefedert
Iris  
Langer Arbeitsabstand
Ti2-E PFS-kompatibel  
CFI S Plan Fluor
ELWD NAMC 20XC
Asbest  
geklärtes Gewebe  
Klinisch / Labor
Konfokal  
Ausbildung  
Laser-Falle/-Pinzette  
Multiphotonen  
SIM  
STORM  
Forschung
TIRF  
Gewebekultur