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| CFI S Plan Fluor ELWD NAMC 20XC | |
|---|---|
|  | |
| Número material | MRH68200 | 
| Tipo | Super Plan Fluor | 
| Técnica primaria | Contraste de modulación avanzado | 
| Inmersión | Aire | 
| Aumento | 20X | 
| Apertura numérica | 0.45 | 
| Distancia de trabajo | 8.2–6.9 | 
| Espesor de la cubierta de vidrio | 0–2 | 
| CFI S Plan Fluor ELWD NAMC 20XC | |
|---|---|
| Diagrama (mm) | |
| Gráfico |  | 
| CFI S Plan Fluor ELWD NAMC 20XC | |
|---|---|
| Campo Claro | adecuado | 
| Campo oscuro | |
| DIC | |
| Fluorescencia (visible) | adecuado | 
| Fluorescencia (UV) | adecuado | 
| Fluorescencia (NIR) | |
| Polarizador | |
| Tipo de polarización | |
| Anillo de contraste de fase | |
| Tipo de contraste de fase | 
| CFI S Plan Fluor ELWD NAMC 20XC | |
|---|---|
| Collar corrector | ✓ | 
| Cargado de resortes | |
| Iris | |
| Larga distancia de trabajo | ✓ | 
| Compatible con Ti2-E PFS | 
| CFI S Plan Fluor ELWD NAMC 20XC | |
|---|---|
| Amianto | |
| Tejido claro | |
| Laboratorio clínico | ✓ | 
| Confocal | |
| Educación | |
| Láser de trampa / Tweezing | |
| Multifotón | |
| SIM | |
| STORM | |
| Investigación | ✓ | 
| TIRF | |
| Cultivo de tejidos | ✓ |