Nikon Europe B.V. | Europe & Africa
- it Change Region
- Global Site
| CFI S Plan Fluor ELWD ADL 60XC |
|
|---|---|
![]() |
|
| Numero materiale | MRH48600 |
| genere | Super piano Fluor |
| Tecnica primaria | Contrasto di fase apodizzato |
| Immersione | Aria |
| Ingrandimento | 60X |
| Apertura numerica | 0.7 |
| Distanza di lavoro | 2.6–1.8 |
| Coprire lo spessore del vetro | 0.1–1.3 |
| CFI S Plan Fluor ELWD ADL 60XC |
|
|---|---|
| Diagramma (mm) |
|
| Grafico |
| CFI S Plan Fluor ELWD ADL 60XC |
|
|---|---|
| Campo luminoso | adatto |
| Darkfield | condensatore universale (a secco) e anello a campo scuro, condensatore a campo scuro (secco / olio) |
| DIC | |
| Fluorescenza (visibile) | adatto |
| Fluorescenza (UV) | adatto |
| Fluorescenza (NIR) | |
| polarizzatore | |
| Tipo di polarizzazione | |
| Anello di contrasto di fase | ◎PH2 |
| Tipo a contrasto di fase | ADL |
| CFI S Plan Fluor ELWD ADL 60XC |
|
|---|---|
| Correzione del collare | ✓ |
| Caricato a molla | |
| Iris | |
| Lunga distanza di lavoro | ✓ |
| Ti2-E PFS compatibile |
| CFI S Plan Fluor ELWD ADL 60XC |
|
|---|---|
| Amianto | |
| Cancella tessuto | |
| Clinica / Laboratorio | |
| Confocale | |
| Formazione scolastica | |
| Trapping laser / Tweezing | |
| multiphoton | |
| SIM | |
| STORM | |
| Ricerca | ✓ |
| TIRF | |
| Coltura di tessuti | ✓ |