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| CFI S Plan Fluor ELWD 40XC  | 
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|---|---|
![]()  | 
              |
| Numero materiale | MRH08430 | 
| genere | Super piano Fluor | 
| Tecnica primaria | Campo luminoso | 
| Immersione | Aria | 
| Ingrandimento | 40X | 
| Apertura numerica | 0.6 | 
| Distanza di lavoro | 3.6–2.8 | 
| Coprire lo spessore del vetro | 0–2 | 
| CFI S Plan Fluor ELWD 40XC  | 
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|---|---|
| Diagramma (mm)  | 
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| Grafico | ![]()  | 
              
| CFI S Plan Fluor ELWD 40XC  | 
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|---|---|
| Campo luminoso | raccomandato per i migliori risultati | 
| Darkfield | condensatore universale (a secco) e anello a campo scuro, condensatore a campo scuro (secco / olio) | 
| DIC | adatto | 
| Fluorescenza (visibile) | raccomandato per i migliori risultati | 
| Fluorescenza (UV) | raccomandato per i migliori risultati | 
| Fluorescenza (NIR) | |
| polarizzatore | adatto | 
| Tipo di polarizzazione | Semplice POL | 
| Anello di contrasto di fase | |
| Tipo a contrasto di fase | 
| CFI S Plan Fluor ELWD 40XC  | 
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|---|---|
| Correzione del collare | ✓ | 
| Caricato a molla | |
| Iris | |
| Lunga distanza di lavoro | ✓ | 
| Ti2-E PFS compatibile | ✓ | 
| CFI S Plan Fluor ELWD 40XC  | 
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|---|---|
| Amianto | |
| Cancella tessuto | |
| Clinica / Laboratorio | |
| Confocale | |
| Formazione scolastica | |
| Trapping laser / Tweezing | |
| multiphoton | |
| SIM | |
| STORM | |
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| Coltura di tessuti | ✓ |