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| CFI S Plan Fluor ELWD 20XC | |
|---|---|
|  | |
| Numero materiale | MRH08230 | 
| genere | Super piano Fluor | 
| Tecnica primaria | Campo luminoso | 
| Immersione | Aria | 
| Ingrandimento | 20X | 
| Apertura numerica | 0.45 | 
| Distanza di lavoro | 8.2–6.9 | 
| Coprire lo spessore del vetro | 0–2 | 
| CFI S Plan Fluor ELWD 20XC | |
|---|---|
| Diagramma (mm) | |
| Grafico |  | 
| CFI S Plan Fluor ELWD 20XC | |
|---|---|
| Campo luminoso | raccomandato per i migliori risultati | 
| Darkfield | condensatore universale (a secco) e anello a campo scuro, condensatore a campo scuro (secco / olio) | 
| DIC | adatto | 
| Fluorescenza (visibile) | raccomandato per i migliori risultati | 
| Fluorescenza (UV) | raccomandato per i migliori risultati | 
| Fluorescenza (NIR) | |
| polarizzatore | adatto | 
| Tipo di polarizzazione | Semplice POL | 
| Anello di contrasto di fase | |
| Tipo a contrasto di fase | 
| CFI S Plan Fluor ELWD 20XC | |
|---|---|
| Correzione del collare | ✓ | 
| Caricato a molla | |
| Iris | |
| Lunga distanza di lavoro | ✓ | 
| Ti2-E PFS compatibile | ✓ | 
| CFI S Plan Fluor ELWD 20XC | |
|---|---|
| Amianto | |
| Cancella tessuto | |
| Clinica / Laboratorio | |
| Confocale | |
| Formazione scolastica | |
| Trapping laser / Tweezing | |
| multiphoton | |
| SIM | |
| STORM | |
| Ricerca | ✓ | 
| TIRF | |
| Coltura di tessuti | ✓ |