Selettore obiettivo
Confronto oggettivo
| CFI S Plan Fluor ELWD NAMC 20XC |
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|---|---|
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| Numero materiale | MRH68200 |
| genere | Super piano Fluor |
| Tecnica primaria | Contrasto di modulazione avanzato |
| Immersione | Aria |
| Ingrandimento | 20X |
| Apertura numerica | 0.45 |
| Distanza di lavoro | 8.2–6.9 |
| Coprire lo spessore del vetro | 0–2 |
| CFI S Plan Fluor ELWD NAMC 20XC |
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| Diagramma (mm) |
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| Grafico |  |
| CFI S Plan Fluor ELWD NAMC 20XC |
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|---|---|
| Campo luminoso | adatto |
| Darkfield | |
| DIC | |
| Fluorescenza (visibile) | adatto |
| Fluorescenza (UV) | adatto |
| Fluorescenza (NIR) | |
| polarizzatore | |
| Tipo di polarizzazione | |
| Anello di contrasto di fase | |
| Tipo a contrasto di fase |
| CFI S Plan Fluor ELWD NAMC 20XC |
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|---|---|
| Correzione del collare | ✓ |
| Caricato a molla | |
| Iris | |
| Lunga distanza di lavoro | ✓ |
| Ti2-E PFS compatibile |
| CFI S Plan Fluor ELWD NAMC 20XC |
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|---|---|
| Amianto | |
| Cancella tessuto | |
| Clinica / Laboratorio | ✓ |
| Confocale | |
| Formazione scolastica | |
| Trapping laser / Tweezing | |
| multiphoton | |
| SIM | |
| STORM | |
| Ricerca | ✓ |
| TIRF | |
| Coltura di tessuti | ✓ |