Selector de objetivos
Comparación objetiva
| CFI S Plan Fluor ELWD NAMC 20XC |
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|---|---|
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| Número material | MRH68200 |
| Tipo | Super Plan Fluor |
| Técnica primaria | Contraste de modulación avanzado |
| Inmersión | Aire |
| Aumento | 20X |
| Apertura numérica | 0.45 |
| Distancia de trabajo | 8.2–6.9 |
| Espesor de la cubierta de vidrio | 0–2 |
| CFI S Plan Fluor ELWD NAMC 20XC |
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|---|---|
| Diagrama (mm) |
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| Gráfico |  |
| CFI S Plan Fluor ELWD NAMC 20XC |
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|---|---|
| Campo Claro | adecuado |
| Campo oscuro | |
| DIC | |
| Fluorescencia (visible) | adecuado |
| Fluorescencia (UV) | adecuado |
| Fluorescencia (NIR) | |
| Polarizador | |
| Tipo de polarización | |
| Anillo de contraste de fase | |
| Tipo de contraste de fase |
| CFI S Plan Fluor ELWD NAMC 20XC |
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|---|---|
| Collar corrector | ✓ |
| Cargado de resortes | |
| Iris | |
| Larga distancia de trabajo | ✓ |
| Compatible con Ti2-E PFS |
| CFI S Plan Fluor ELWD NAMC 20XC |
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|---|---|
| Amianto | |
| Tejido claro | |
| Laboratorio clínico | ✓ |
| Confocal | |
| Educación | |
| Láser de trampa / Tweezing | |
| Multifotón | |
| SIM | |
| STORM | |
| Investigación | ✓ |
| TIRF | |
| Cultivo de tejidos | ✓ |