Sélecteur d’objectifs
Comparaison objective
| CFI S Plan Fluor ELWD NAMC 20XC |
|
|---|---|
 |
|
| Numéro d’article | MRH68200 |
| Type | Super Plan Fluor |
| Technique primaire | Contraste de modulation avancé |
| Immersion | Air |
| Grossissement | 20X |
| Ouverture numérique | 0.45 |
| Distance de travail | 8.2–6.9 |
| Épaisseur du verre de recouvrement | 0–2 |
| CFI S Plan Fluor ELWD NAMC 20XC |
|
|---|---|
| Diagramme (mm) |
 |
| Graphique |  |
| CFI S Plan Fluor ELWD NAMC 20XC |
|
|---|---|
| Champ lumineux | adapté |
| Terrain sombre | |
| DIC | |
| Fluorescence (visible) | adapté |
| Fluorescence (UV) | adapté |
| Fluorescence (NIR) | |
| Polarisant | |
| Type polarisant | |
| Anneau de contraste de phase | |
| Type de contraste de phase |
| CFI S Plan Fluor ELWD NAMC 20XC |
|
|---|---|
| Collier de correction | ✓ |
| À ressort | |
| Iris | |
| Longue distance de travail | ✓ |
| Compatible Ti2-E PFS |
| CFI S Plan Fluor ELWD NAMC 20XC |
|
|---|---|
| Amiante | |
| Tissu clair | |
| Clinique / laboratoire | ✓ |
| Confocal | |
| Éducation | |
| Piégeage Laser / Tweezing | |
| Multiphoton | |
| SIM | |
| STORM | |
| Recherche | ✓ |
| TIRF | |
| Culture tissulaire | ✓ |